等离子体与器壁、电极接触时，在交界面处会形成一个电中性被破坏的薄层， 这个偏离电中性的薄层称为等离子体鞘，也称为常压大型等离子表面清洗机等离子体鞘层、鞘层的形成与等离子体屏蔽效应密切相关，是等离子体受到扰动时，由德拜屏蔽产生的空间电荷层。（plasma sheath）

等离子体鞘（plasma sheath）可以在电极或器壁表面形成，依据电极或器璧电位与等离子体电位关系，可分为离子鞘和电子鞘。电极近旁的鞘：设等离子体电位为Vp，电极电位为Vs，当电极电位Vs与等离子体电位Vp所有一个差值时接通外电路，电极上会有电流流过，这相当于引入一个外电势作用于等离子体。当VsNe)，随着电场增强会在距电极一定距离的范围内形成由离子构成的空间电荷层，即离子鞘。当Vs>Vp时，电极近旁形成的电场就将吸引电子排斥离子，结果为电子密度大于离子密度(Ne>Ni)，随着电场强度的增加，相应的在距电极的一定距离范围内 形成由电子构成的空间电荷层，即电子鞘。plasma sheath

浮置基板处的鞘层：当插入等离子体的是绝缘材料，因为电流不能通过，所以到达绝缘体表面的带电粒子要么在表面处相互复合，要么返回等离子体区。在 等离子体中，由于电子的运动速度大于重粒子的运动速度，绝缘体表面会出现净的负电荷积累，即表面相对于等离子体区呈负电势。表面区的负电势将排斥向表面运动的后续电子，吸引正离子，直到绝缘体表面的负电势达到某个确定值，使离子流与电子流相等为止。这时绝缘体表面电位Vf趋于稳定，Vf与等离子体电位之间的差值(Vp-Vf)保持定值。此时在靠近绝缘体表面存在一个空间电荷层，这个空间电荷层为离子鞘。由于等离子体中的绝缘体通常被称为浮置基板，绝缘体的电位常称为浮置电位。显然浮置电位是一个负值，而浮置基板与等离子体交界处形成的是一个由正离子构成的空间电荷层。因此任何绝缘体，包括反应器壁置于等离子体中都会形成离子鞘。

等离子体鞘（plasma sheath）是等离子体重要特征之一，等离子体鞘的具体表现与体系温度T和粒子密度n密切相关。通过对鞘层的研究可以了解等离子体的一些重要性质。